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高分散均匀型硅溶胶分散机

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品牌: IKN上海依肯
电压: 380V
功率: 2.2kw/4kw/5.5kw/7.5kw/11kw/22kw
变速方式: 变频变速
起订: 1 台
供货总量: 28 台
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2018-11-05 09:48
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【高分散均匀型硅溶胶分散机】详细说明
高分散均匀型硅溶胶分散机,大粒径硅溶胶分散机,80纳米硅溶胶分散机,中性硅溶胶分散机,酸性硅溶胶分散机,德国进口硅溶胶分散机,超细硅溶胶分散机,CMSD分散乳化型分散机,研磨分散型14000转分散机,粉碎输送型高速分散机

硅溶胶PH值/浓度/粒径大小/温度/平均粒径/水解条件/母液指标条件/分散设备(http://www.chemdrug.com/sell/22/)的选择都会影响和决定着zui终产品(http://www.chemdrug.com/invest/)的质量。制备硅溶胶方法主要分为两种:一种是单质硅水解法,另一种是硅醇盐水解法
二氧化硅粒径偏小,均匀性差等问题一直是制约国内企业(http://www.chemdrug.com/company/)生产多功能,高质量硅溶胶产品的主要因素。采用上海依肯分散乳化性胶体磨能够制备出分散性高,颗粒均匀性好的二氧化硅,且制备过程能耗低,设备后期维修成本ji低。这对制备大粒径/高浓度/高均匀分散的硅溶胶具有很大的现实意义。
高分散均匀型硅溶胶分散机,CMSD分散乳化型分散机=德国胶体磨+高速分散机                            上海依肯 林万翠


一般而言,研磨时间越长,则研磨效果越好,但物料颗粒的细化达到一定程度则很难再进一步细化。因为随着颗粒粒度的减小,比表面积迅速增大,颗粒表面激活点增多,表面自由能增大,体系处于ji不稳定状态,微细颗粒间则彼此团聚形成“假颗粒”,以降低比表面积。在普通的高速搅拌机、高速分散机、胶体磨等的制备下易使原料细化不chong分,同时由于机械(http://www.chemdrug.com/sell/22/)作用力小,易使其团聚,而影响后续使用及产品质量。上海依肯将分散机与胶体磨进行改进,研发出了一款研磨分散机,在设备工作腔体第一级高经度研磨头处能够chong分细化物料粒度,同时细化后的物料紧接着进入第二级定转子间隙ji为狭小的分散头中进行高速剪切分散离心运动,从而得到稳定性高的分散系,除了设备结构上的改进以外,更是在设备的转速上有了一个质的飞跃,打破国nei3000转的ji限,直接将转速提升至14000转的超高转速,作用效果更好。
上海依肯分散乳化型分散机工作腔体内部介绍:
研磨头:用于湿磨,或用于坚硬粒状原材料的研磨,也可用于细乳化和高粘物料处理。
研磨头结构,一次循环即完成细化处理
磨头间隙可调,可灵活控制流量
研磨头的du特设计方式,三级锯齿,每个沟槽的深度不一样,从上到下深度由深变浅,由款变窄,使研磨的物料越磨越细
分散头:用于研磨后再次细化和团聚打开


CMSD 2000系列高分散均匀型硅溶胶分散机设备选型表
型号
流量
L/H
转速
rpm
线速度
m/s
功率
kw
入/出口连接
DN
CMSD 2000/4
300
14000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2850
41
90
DN150/DN125
CMSD 2000/50
60000
1100
41
160
DN200/DN150
 
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
 
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%



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