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掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极的制备及电化学性能

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-11-26  浏览次数:2
摘 要:采用微波等离子体化学气相沉积法在本征硅上制备掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极,其中硅片的一面为掺硼金刚石膜,另一面为碳膜。通过SEM和拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌和成分,掺硼金刚石膜为纳米级金刚石,碳膜表面有均匀分布的凹坑;利用四探针、循环
  • 【题 名】掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极的制备及电化学性能
  • 【作 者】练发东 芶立
  • 【机 构】四川大学材料科学与工程学院 四川成都610065
  • 【刊 名】《化学研究与应用》2014年 第8期 1277-1281页 共5页
  • 【关键词】化学气相沉积( CVD) 掺硼金刚石膜 碳膜 复合电极
  • 【文 摘】采用微波等离子体化学气相沉积法在本征硅上制备掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极,其中硅片的一面为掺硼金刚石膜,另一面为碳膜。通过SEM和拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌和成分,掺硼金刚石膜为纳米级金刚石,碳膜表面有均匀分布的凹坑;利用四探针、循环伏安法和交流阻抗法表征电极导电性和电化学性能,随着沉积时间增加,电极方阻减小;在铁氰化钾溶液中电极发生准可逆氧化还原反应,电势差为119mV,在103 Hz附近阻抗为113Ω;多巴胺的检测限为5μmol·L-1。
 
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  • (1) 化学气相沉积(,CVD),掺硼金刚石膜,碳膜,复合电极
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