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脉冲激光沉积制备石墨烯薄膜的工艺研究

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-11-26  浏览次数:5
摘 要:二维结构的石墨烯拥有的优异性能,使之成为近年来化学,物理,材料科学等领域的研究热点。本文以热解石墨为碳源,采用脉冲激光沉积方法,在单晶Cu(111)基片上沉积石墨烯薄膜,并对比了高真空气氛和氢气气氛对石墨烯薄膜沉积的影响。薄膜沉积的实验条件
  • 【题 名】脉冲激光沉积制备石墨烯薄膜的工艺研究
  • 【作 者】王进 俞健 熊政伟 尹鸿卜 王雪敏 曹林洪 吴卫东
  • 【机 构】西南科技大学材料科学与工程学院 绵阳621010 西南科技大学极端条件物质特性实验室 绵阳621010 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 绵阳621900
  • 【刊 名】《真空科学与技术学报》2015年 第8期 1023-1027页 共5页
  • 【关键词】脉冲激光沉积 石墨烯 高分辨透射电子显微镜 原子力显微镜
  • 【文 摘】二维结构的石墨烯拥有的优异性能,使之成为近年来化学,物理,材料科学等领域的研究热点。本文以热解石墨为碳源,采用脉冲激光沉积方法,在单晶Cu(111)基片上沉积石墨烯薄膜,并对比了高真空气氛和氢气气氛对石墨烯薄膜沉积的影响。薄膜沉积的实验条件由基片温度、氢气分压和脉宽决定。通过原子力显微镜、高分辨透射电子显微镜、选区电子衍射和拉曼光谱研究了薄膜的微观形貌和结晶度,并发现基片温度和氢气压强主要决定了石墨烯薄膜的结晶度,其中在氢气气氛中400℃时获得了高质量的石墨烯薄膜。
 
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