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Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-05-08  浏览次数:9
摘 要:Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power
  • 【题 名】Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power
  • 【作 者】徐静 闵光辉 胡立杰 赵晓华 于化顺
  • 【机 构】School of Materials Science and Engineering Shandong University Ji'nan China Department of Civil Engineering Shandong Jiaotong University Ji'nan China
  • 【刊 名】《中国有色金属学会会刊:英文版》2009年 第4期 952-955页 共4页
  • 【关键词】磁控溅射技术 六硼化镧 溅射功率 薄膜沉积 直流 依赖性 原子力显微镜 界面结合强度
  • 【文 摘】Dependence of characteristics of LaB6 films on DC magnetron sputtering power
 
本文导航:
  • (1) 磁控溅射技术,六硼化镧,溅射功率,薄膜沉积,直流,依赖性,原子力显微镜,界面结合强度
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