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纳米结构Ni-TiN复合薄膜的电沉积及腐蚀行为

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-05-08  浏览次数:5
摘 要:采用电沉积方法在黄铜基底上制备纳米结构的Ni-TiN复合薄膜。用扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM)对其微观结构进行表征,利用X射线衍射(XRD)分析其平均晶粒尺寸,采用极化曲线及电化学阻抗谱(EI
  • 【题 名】纳米结构Ni-TiN复合薄膜的电沉积及腐蚀行为
  • 【作 者】朱旭蓓 蔡超 郑国渠 张昭 李劲风
  • 【机 构】浙江工业大学化工学院 杭州310014 西安交通大学材料强度国家重点实验室 西安710049 浙江大学化学系 杭州310027 中南大学材料科学与工程学院 长沙410083
  • 【刊 名】《中国有色金属学报:英文版》2011年 第10期 2216-2224页 共9页
  • 【关键词】Ni-TiN纳米复合薄膜 电沉积 电化学阻抗谱
  • 【文 摘】采用电沉积方法在黄铜基底上制备纳米结构的Ni-TiN复合薄膜。用扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM)对其微观结构进行表征,利用X射线衍射(XRD)分析其平均晶粒尺寸,采用极化曲线及电化学阻抗谱(EIS)研究其腐蚀行为。结果表明,电沉积的电流密度、TiN纳米粒子的浓度、搅拌速度、溶液温度及pH值对电沉积薄膜形貌的影响较大。制备的Ni-TiNi电沉积薄膜的平均晶粒尺寸约为50nm。纳米结构的Ni-TiNi电沉积薄膜的耐腐蚀性能远优于纯Ni沉积薄膜的。
 
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  • (1) Ni-TiN纳米复合薄膜,电沉积,电化学阻抗谱
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