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5-甲基苯并三氮唑作为电腐蚀抑制剂在铜电化学机械平坦化中的应用

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-05-08  浏览次数:14
摘 要:根据电化学分析,5-甲基苯并三氮唑(m-BTA)的腐蚀抑制能力要高于并三唑(BTA)的-当羟基乙叉二膦酸(HEDP)电解液中同时含有m―BTA及氯离子时,其抑制解离能力比从含有m-BTA的更好,即使施
  • 【题 名】5-甲基苯并三氮唑作为电腐蚀抑制剂在铜电化学机械平坦化中的应用
  • 【作 者】边燕飞 翟文杰 朱宝全
  • 【机 构】哈尔滨工业大学机电工程学院 哈尔滨150001
  • 【刊 名】《中国有色金属学报:英文版》2013年 第8期 2431-2438页 共8页
  • 【关键词】电化学机械平坦化 5-methyl-1H―benzotriazole 腐蚀抑制剂 氯离子
  • 【文 摘】根据电化学分析,5-甲基苯并三氮唑(m-BTA)的腐蚀抑制能力要高于并三唑(BTA)的-当羟基乙叉二膦酸(HEDP)电解液中同时含有m―BTA及氯离子时,其抑制解离能力比从含有m-BTA的更好,即使施加更岛的阳极氧化电位依然能保持良好的抑制能力。由电化学附抗谱法、纳米划痕实验以及能谱分析结果得知,m-BTA抑制能力的提升是因为整体钝化膜厚度的增加而引起的。由X射线光电子能谱分析得知,氯高子与m-BTA钝化层形成『Cu(1)Cl(m-BTA)]。高分子化合物,使得整体钝化层厚度增加。因此,在含有m―BTA的HEDP电解液中添加氯离了有助于m-BTA钝化层抑制能力的增强,进而更有效的电位操作区间得到扩展。
 
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  • (1) 电化学机械平坦化,5-methyl-1H―benzotriazole,腐蚀抑制剂,氯离子
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