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基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性

放大字体  缩小字体 更新日期:2018-11-24  浏览次数:8
摘 要:用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜。分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试。X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价
  • 【题 名】基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性
  • 【作 者】赵洋 赵龙 王辉 汤正新 王瑾 史志峰
  • 【机 构】吉林大学电子科学与工程学院 吉林长春130023 河南科技大学物理与工程学院 河南洛阳471003
  • 【刊 名】《河南科技大学学报:自然科学版》2011年 第3期 9-11页 共3页
  • 【关键词】NiO薄膜 金属有机化学气相沉积法 透射率
  • 【文 摘】用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜。分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试。X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1∶1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400 nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右。
 
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  • (1) NiO薄膜,金属有机化学气相沉积法,透射率
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